GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設備

產(chǎn)品型號：

簡要描述：GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。

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詳細介紹

GL300 MLA是天仁微納新型專門為晶圓級光學加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全自動紫外納米壓印光刻設備，可在200/300 mm基底面積上平行復制生產(chǎn)聚合物光學器件。

GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設備支持cassette to cassette自動上下片、自動復制柔性復合工作模具，工作模具自動更換。整個工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進行，以保證壓印結果質量。內置的高精度自動點膠系統(tǒng)、APC（主動模具基底平行控制）技術、以及自動脫模功能都保證了大面積晶圓級光學生產(chǎn)的精度、均勻性（TTV）與良率。同時，自動模具基底對位系統(tǒng)還可實現(xiàn)晶圓之間對位堆疊工藝（WLS-Wafer Level Stacking）。

GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。

主要功能

● 全自動200/300mm晶圓級光學加工（WLO）生產(chǎn)線
● APC主動模具基底平行控制技術，確保大面積晶圓壓印TTV均勻性
● Cassette to cassette自動上下片，光學巡邊預對位
● 設備內自動復制柔性復合工作模具，同時支持自動更換工作模具，適合連續(xù)生產(chǎn)
● 內置高精度自動點膠功能
● 自動對位、自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中自動進行，以保證壓印質量
● 標配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料
● 隨機提供全套納米壓印工藝與材料，包括標準示范WLO等工藝流程，幫助客戶零門檻達到國際的納米壓印水平

設備照片

相關參數(shù)

兼容基底尺寸	200mm、300mm 特殊尺寸可定制
支持基底材料	硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
上下片方式	Cassette to cassette全自動上下片
晶圓預對位	光學巡邊預對位
納米壓印技術	APC主動平行控制技術，適合大面積WLO、WLS等工藝
壓印精度	可小于10納米*
結構深寬比	優(yōu)于10比1*
TTV控制	微米級精度（200 /300 mm晶圓）
紫外固化光源	紫外LED（365nm）面光源，光強>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配）
設備內部環(huán)境控制	標配，外部環(huán)境Class 100，內部環(huán)境可達Class 10*
自動壓印	支持
自動脫模	支持
自動工作模具復制	支持
自動工作模具更換	支持
模具基底對位功能	支持

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